산업통상부

동진쎄미켐, 1분기 포토레지스트 증설공장 착공으로

동진쎄미켐, 1분기 포토레지스트 증설공장 착공으로

공급안정성 강화 기대

- 정승일 산업부 차관, 동진쎄미켐 방문, 소부장 정책의지 밝혀 -

□ 정승일 산업통상자원부 차관은 1월 15일(수) 오후 경기도 화성시 소재의 반도체·디스플레이용 소재기업인 동진쎄미켐을 방문하였다.

	【 현장방문 개요 】

▪ 일시/장소 : ’20.1.15(수) 15:00∼16:00 / 동진쎄미켐 화성공장 ▪ 참석자 : (산업부) 차관, 반도체디스플레이과장 등 (동진쎄미켐) 이준혁 대표이사 등 임직원 ▪ 내용 : 포토레지스트 국내생산 현장상황 공유 소부장 정책 성과 제고를 위한 기업 현장애로 의견수렴 등

ㅇ 금번 정 차관의 방문은 새해 첫 현장 방문으로,

- 반도체 핵심소재 중 하나인 포토레지스트*의 국내 생산 기업 임직원들을 직접 격려하고, 현장 목소리를 청취하기 위해 이뤄졌다.

* 반도체‧디스플레이 제조과정에서 기판 위에 전자회로 패턴형성을 위해 사용되는 감광재

□ 금번 방문대상 기업인 동진쎄미켐은 EUV포토레지스트의 바로 前 단계인 반도체용 ArF-immersion(불화아르곤 액침) 포토레지스트를 국내 최초(‘10년)로 개발․생산한 반도체·디스플레이용 소재 전문기업으로,

ㅇ 금년 1분기중에 KrF(불화크립톤), Arf(불화아르곤) 등 포토레지스트 생산공장 증설을 착공(설계는 旣완료)할 예정이다.

ㅇ 증설공장이 계획대로 완공 후 내년 초 정상가동되면 동진쎄미켐은 국내 포토레지스트 생산량을 현재보다 2배 이상 확대 생산하게 된다.

□ 포토레지스트는 감광재로써 반도체의 노광(Photo) 공정 단계에서 웨이퍼 기판에 패턴을 형성하기 위해 필수적으로 사용되는데,

ㅇ 반응하는 빛의 파장에 따라 주로 KrF(불화크립톤, 248nm), ArF(불화아르곤, 193nm), EUV(극자외선, 13.5nm)용 등으로 구분되며, 반응하는 빛의 파장이 짧을수록 공정 미세화가 가능하다.

ㅇ 포토레지스트는 그간 일본으로부터의 수입에 의존하여 왔으나, 일본의 수출규제 이후, 對日 수입 의존도를 낮춰 공급안정성을 빠르게 확보해 나가고 있다.

* 포토레지스트 對日수입비중(무역협회) : (‘19.1~6월 누적) 92% → (’19.7~11월 누적) 85%

ㅇ 우선, ①벨기에(RMQC), 미국(듀폰), 독일(머크) 등 일본外 국가로 수입국을 다변화하고 있고,

* ‘19.7~11월(누적) 포토레지스트 수입액의 전년동기대비 증가율(무역협회)

: (벨기에) 1,031.4%, (미국) 15.8%, (독일) 66.7%

②듀폰으로부터 EUV용 포토레지스트 개발·생산시설 등 구축을 위한 한국 투자(2.8천만불, ‘20~’21)를 확정(‘20.1.9) 받아 국내 주요 수요업체와 제품 실증테스트를 진행해 나갈 계획이며,

③국내 기술개발, 양산평가 등을 통해 포토레지스트의 국내 기술력을 확보해 나갈 예정이다.

* ArF-immersion 고도화 기술 개발 등 포토레지스트 R&D 총 230억원(‘19~’21) 지원

□ 정 차관은 “작년 7월 일본 수출규제 이후 민관이 힘을 합쳐 노력해 온 결과, 포토레지스트를 포함하여 3대 품목 등 핵심소재의 공급안정성이 확보되어 가고 있다”면서

ㅇ “금년 1분기 내 동진쎄미켐의 생산공장 증설 착공 등으로 포토레지스트의 국내 공급 안정성이 한층 더 강화될 것으로 기대한다”고 하며, “흔들림 없이 기술개발에 매진해 온 임직원에게도 감사”를 표했다.

ㅇ 이준혁 대표도 “생산공장 증설이 신속하게 착수될 수 있었던 것은 정부의 대규모 R&D 투자, 공장증설용 토지에 대한 신속한 용도변경* 등 범정부적 지원이 있었기 때문에 가능했다”라면서 화답했다.

* 경기도 산단용지 변경결정(‘19.9월) 및 고시(’19.11월)

□ 정 차관은 첨단 포토레지스트 기술개발에 있어서도 지원을 아끼지 않을 계획임을 언급하며, “금년을 미래 10년을 만들어가는 소부장 산업 경쟁력 확보의 원년으로 삼고, 대외여건 변화와 관계없이 소부장 경쟁력 강화정책을 지속적이고 일관적으로 추진해 나가겠다”고 밝혔다.

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