산업통상부

                       반도체소자의 나노분석방법을 ISO 국제규격으로 제안

                               - 5나노미터급 반도체 박막의 분석방법 -

□ 산업자원부 기술표준원(원장 윤교원)은 반도체(D램)분야 세계 제1위국이라는 우리나라의 위상에 걸맞게 반도체소자의 초정밀 나노분석방법을 국제표준화기구(ISO)에 제안함으로써 생산량과 더불어 국제표준면에서도 강점을 가질 수 있는 발판을 마련하였다고 밝힘
   ㅇ ''04년 1월 현재 반도체수출은 우리나라 총수출액(18,999백만달러)의 9.8%를 차지하였으며 총세계시장(D램분야)의 40% 이상을 차지함(현재 삼성전자가 D램 업계에서 세계최초로 70나노미터 D램 공정기술 개발에 성공하였음)

□ 나노분석에 관한 국제표준은 국제표준화기구(ISO) TC201(나노분석) 기술위원회에서 관장하고 있으며 금번 제안한 규격은 엑스선을 이용한 비과피분석방법에 관한 것으로 동 기술위원회의 해당분과위원회(SC7)에서 심의될 예정임
   ㅇ 본 국제규격 제정안의 작업을 위해 미국, 영국, 일본 등 11개국과의 협의를 거쳐 ''04년 10월 제주도에서 개최되는 국제표준화총회에서 정식 작업반(working group)을 구성할 계획임

□  본 규격안은 현재 삼성종합기술원에서 반도체 등의 제품평가에 실질적으로 적용되고 있는 분석기술에 대한 것으로 5나노미터 이하 두께를 갖는 초집적 반도체용 박막의 비파괴 평가법이 규격화 될 경우 일본, 대만 등을 포함한 선진 반도체 강국에서 적극 수용할 것으로 기대됨
   ㅇ 반도체 소자를 파괴하지 않고 수 옹스트롬(10-10m)의 해상도로  깊이방향에 따른 화학성분 분석이 가능하며 시료로부터의 오염 또한없으므로 분석효율 매우 높음

□ 이 평가방법은 반도체 산업분야에서의 수율 및 분석정확도의 획기적인 향상을 위해 삼성종합기술원에서 수많은 현장시험을 통해 정립시킨 것으로 반도체소자 박막두께 측정 및 성분 변화분석의 용이성을 극대화한 것임

□   이로써 우리나라는 반도체소자 분야의 국제표준을 실질적으로 이끌어 나갈 수 있는 계기를 마련하였으며 앞으로도 기술표준원은 반도체 업계와 연계하여 지속적으로 우리나라 원천기술의 국제표준화 작업을 적극적으로 추진할 계획임.
   ㅇ 이미 ''99년 12월에 우리나라가 제안한 "이온빔을 이용한 반도체소자의 평가방법"에 대한 규격이 4년의 노력 끝에 ''03년 7월 국제규격으로 최종확정되어 공표된 이후 두번째로 제안하는 것임.
     - 현재 우리나라는 나노분석을 위한 핵심기술분야인 원자현미경 기술분과위원회의 신설 및 간사국을 수임(''04. 2)한 바 있음

      ISO : International Organization for Standardization (국제표준화기구)
       TC : Technical Committee (기술위원회)
       SC : Sub Committee (분과위원회)

* 첨부 : 보도자료전문