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반도체 생산용 '패턴 웨이퍼 건식 세정기술' 세계 최초 개발

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                      반도체 생산공정에 사용되는

세계적 기술인 「패턴 웨이퍼 건식 세정기술」 개발

 

- 기존 습식 세정에 비해 60%이상 에너지절감으로 연간 1,380억원 절감 기대 -

⃞ 최근 유래없는 고유가 상황이 지속되고 있는 가운데 반도체 생산공정상 불순물을 제거하는 세정공정에서 기존 방식에 비해 60%이상의 에너지를 절감할 수 있는 초임계유체기술을 활용한 첨단기술이 세계 최초로 우리 학계와 업계 공동으로 개발되어 주목을 받고 있다.

⃞ 서강대 유기풍 교수(화학생명공학과) 연구팀은 (주)신성이엔지, (주)동우화인켐 등 반도체 장비업체들과 협력하여 세계 최초로 반도체산업의 세정라인에 활용되는 초임계 유체기술을 이용한 「차세대 패턴 웨이퍼 건식 세정기술」을 개발했다고 산업자원부(장관 정세균)가 발표하였다.

*초임계유체 : 순수한 물질(물, CO2 등)에 온도와 압력을 높여주면 기체나 액체로 머물 수 없는 초임계 상태가 되며 이때 기체와 액체의 양면적인 물성을 나타내는 유체로 변화(에너지 다소비, 저효율 등의 기술적 난제를 용이하게 해결하는 데 활용)

○유기풍교수 연구팀이 개발한 「초임계 건식 세정법 기술」은 현재 반도체 생산공정의 세정기술로 대부분 사용되는 「습식 세정법 기술」에 비해 60% 이상 에너지를 절감하고, 년간 1,380억원을 절약할 수 있는 세계적 수준의 기술로 미래 성장 동력산업으로 발전시킬 수 있는 획기적인 기술이라고 평가되고 있다.

*기존 습식 세정 기술에 비해 초임계 건식 세정기술은 에너지공정에서 20만toe/년, 폐수처리에서 26만toe/년 등 연간 총 46만toe(1,380억원)를 절감할 수 있어 에너지 절약 및 환경처리 비용을 획기적으로 줄일 것으로 전망

 

* 붙임 : 보도자료 전문

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