산업통상부

* 아래 내용에 대한 자세한 사항은 자원안전팀 정재경 사무관(044-203-5181)에게 문의 바랍니다.

정부가 반도체 핵심 공정에 사용되는 EUV(극자외선) 장비의 국내 도입 절차를 대폭 간소화합니다.

이에 따라 도입 소요 기간이 종전 34일에서 9일로 최대 25일 단축될 전망입니다.

EUV 장비는 파장 13.5nm의 극자외선을 이용해 웨이퍼에 초미세 회로를 그리는 장비로, 액체 주석 분사를 위해 장비 내에 압축기 등 고압가스 제조 설비가 설치돼 있습니다. 현재 네덜란드 ASML이 전 세계 독점 생산 중입니다.

정부는 2일 열린 국무회의에서 글로벌 안전기준을 충족한 반도체 제조 장비에 대해 고압가스 일반제조시설이 아닌 ‘특정설비’ 기준을 적용토록 하는 것을 주요 내용으로 하는 ‘고압가스 안전관리법 시행령’ 일부개정안을 의결했습니다.

이에 따라 EUV 장비 도입 기간이 최대 25일 단축되고, 해외 공인 검사기관의 내압‧기밀 검사 비용도 장비당 5억원 가량 절감될 것으로 예상됩니다.

반도체 공정에 필수인 EUV 장비는 내부에 고압가스 배관과 장치가 포함돼 있어 현행 법령상 ‘고압가스 제조 설비’로 분류됐습니다. 이에 따라 EUV 장비를 설치할 때마다 기술 검토와 검사를 받아야 했고, 이 과정에서 장비 도입이 지연돼 기업의 부담이 발생해 왔습니다.

산업부는 제도 개선을 위해 반도체 업계와 수차례 협의를 거쳐 의견을 수렴하고, 글로벌 안전기준과 국내 안전관리 체계 간 정합성을 면밀히 검토해 EUV 장비를 기존 ‘고압가스 제조 시설’에서 ‘특정설비’로 전환하는 이번 개정안을 마련했습니다.

개정안은 다음 주 중 공포돼 즉시 시행될 예정입니다.