산업통상부

산업자원부 기술표준원은 반도체(D램)분야 세계 제1위라는 위상에 걸맞게 반도체소자의 초정밀 나노분석방법을 국제표준화기구(ISO)에 제안, 우리나라가 생산량과 함께 국제표준면에서도 강점을 가질 수 있는 발판을 마련했다고 15일 밝혔다.
[% 1, middle, right %]올해 1월 기준 반도체수출은 우리나라 총수출액(18,999백만불)의 9.8%를, 총세계시장(D램분야)의 40% 이상을 차지했으며, 삼성전자가 D램 업계에서 세계 최초로 70나노미터 D램 공정기술 개발에 성공한 바 있다.
한편 나노분석에 관한 국제표준은 ISO 나노분석 기술위원회(TC201)에서 관장하고 있으며 이번 우리가 제안한 규격은 엑스선을 이용한 비과피분석방법에 관한 것으로 나노분석 기술위원회 해당분과위원회(SC7)에서 심의될 예정이다.
아울러 이번 국제규격 제정안 작업을 위해 미국, 영국, 일본 등 11개국과의 협의를 거쳐 오는 10월 제주도에서 개최되는 국제표준화총회에서 워킹그룹(working group)을 구성할 계획이다.
기술표준원 김익수 소재부품표준과장은 "본 규격안은 현재 삼성종합기술원에서 반도체 등의 제품평가에 실질적으로 적용되고 있는 분석기술에 대한 것으로, 5나노미터 이하 두께를 갖는 초집적 반도체용 박막의 비파괴 평가법이 규격화 될 경우 일본, 대만 등 선진 반도체 강국에서 적극 수용할 것으로 기대된다"면서 "이 분석방법은 반도체 소자를 파괴하지 않고 수 옹스트롬(10-10m)의 해상도로 깊이방향에 따른 화학성분 분석이 가능하며 시료로부터의 오염 또한 없어 분석효율이 매우 높다"고 평가했다.
또한 이 분석방법은 반도체 산업분야에서의 수율 및 분석정확도의 획기적 향상을 위해 삼성종합기술원에서 수많은 현장시험을 통해 정립시킨 것으로 반도체소자 박막두께 측정 및 성분 변화분석의 용이성을 극대화한 것으로 알려지고 있다.
김익수 과장은 또 "이로써 우리나라는 반도체소자 분야 국제표준을 실질적으로 이끌어 나갈 수 있는 계기를 마련했으며 앞으로도 기술표준원은 반도체 업계와 연계해 우리나라 원천기술의 국제표준화 작업을 적극 추진할 계획"이라고 밝혔다.
참고로 이번 국제규격 제안은, 지난 '99년 12월 우리나라가 제안한 '이온빔을 이용한 반도체소자의 평가방법' 규격이 4년의 노력 끝에 지난해 7월 국제규격으로 최종확정.공표된 이후 두번째로 제안하는 것이다.
(문의: 산업자원부 기술표준원 소재부품표준과 신재혁연구사(jhshin@mocie.go.kr) 02-509-7292)