산업통상부

우리나라가 반도체 제조기술 뿐 아니라 분석기술도 최고임을 증명했다.
산업자원부 기술표준원이 1 나노미터(머리카락의 10만분의 1)의 정확도를 갖는 반도체용 박막의 비파괴 분석방법을 세계최초로 개발해 ISO에 신규 표준으로 제안한 것.
이 분석방법은 우리나라에서 자체개발한 표면 미량 성분분석용 표준시편을 이용해 투과전자현미경의 EELS(전자에너지손실분광법) 등에 적용함으로써 반도체용 박막을 분석하는 방법이다.
기술표준원은 이미 지난 5월 이태리 국제표준화총회에서 반도체박막의 비파괴 분석방법을 발표했고, 전자현미경의 종주국인 일본 및 유럽국가가 적극적 관심을 보여 규격안의 제출을 요청받은 바 있다.
우리가 개발한 반도체 박막 분석기술의 국제규격화는 미국, 일본 등 선진 반도체업계를 바짝 긴장시키고 있다. 이는 우리나라가 반도체 뿐 아니라 생산 및 평가 장비 제조기술에 있어서도 급격하게 성장하고 있어 선진국의 독점영역인 반도체 장비분야에서의 아성을 위협, 자신들의 영향력이 감소되는 것에 대한 우려 때문이다.
참고로 우리나라는 지난해 반도체생산 197억달러로 세계시장의 8.7%를 차지하며 미국, 일본과 함께 3대 강국의 지위를 확보했고, 특히 D램(45.2%)과 플래시메모리(25.7%)의 경우 세계 최고수준을 자랑하고 있다.
따라서 이번 신규 국제표준 제안은, 반도체 강국의 위상을 높임과 더불어 국제표준을 선점할 수 있는 기반을 제공했다는 점에서 의의가 크다.
특히 이번에 제안한 방법은 반도체 산업분야에서의 수율 및 분석정확도의 획기적인 향상을 위해 삼성종합기술원(송세안 수석연구원)에서 초미세 다층박막 표준시편을 이용해 수많은 현장시험을 통해 정립시킨 방법으로 일본 등 반도체 강국에서 많은 관심을 보이고 있다.
기술표준원 김익수 소재부품표준과장은 "선진국들이 표준의 선점으로 합법적인 기술 장벽을 만들어 자국시장을 보호하는 현실에서, 이번 신규 국제규격 제안으로 반도체 분야의 국제표준을 실질적으로 이끌어 나갈 수 있는 계기가 마련됐으며 세계시장에서 우리 반도체 관련 제품의 수출증대를 위한 전환점이 될 것"으로 기대했다.

반도체용 다층박막의 단면 분석결과(사례)

문의: 산자부 기표원 소재부품표준과 신재혁연구사 02-509-7292 (jhshin@mocie.go.kr)
정리: 산업자원투데이 김윤미(news@mocie.go.kr)